用途及特點：
廣泛應用于各種金屬材料、合金材料，晶體材料等去應力處理，光亮退火，真空除氣等。針對退火材料的多樣性，爐膛長度從300~15000mm均有選擇，并配置進取料系統(tǒng)；細長桿類材料可選擇立式爐膛結構，參考VVU-/VVD-系列立式真空爐。
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配置選項：
充氣壓力選擇：0.1/0.2MPa；
特殊材料工藝可附帶低溫對流加熱裝置；
內/外循環(huán)快速冷卻系統(tǒng)；
低壓控制裝置，滿足特殊氣氛工藝要求（如抑制合金元素的揮發(fā)）；
高溫金屬（鎳鉻、鉬、鎢）/石墨材料加熱系統(tǒng)選擇，方便不同溫度或材料工藝需求；
根據材料工藝要求，可自由選擇高真空/中真空配置；
主要技術參數：
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型 號 有效加熱區(qū)(寬*高*長，mm） *高溫度
（℃） 極限真空度（Pa） 均溫性（℃） 壓升率
（Pa/h） 加熱功率
(KVA) 參考裝料量（Kg）
VAF223 200*200*300 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 45 30
VAF334 300*300*400 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 60 80
VAF446 400*400*600 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 90 200
VAF557 500*500*700 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 120 350
VAF669 600*600*900 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 150 500
VAF7712 700*700*1200 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 240 700
VAF8815 800*800*1500 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 300 1000
VAF8870 800*800*7000 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 1200 4500
VAF77150 700*700*15000 1300 2*10-3 ±5 ≤0.4 1200 8000